SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam minta

Ez a gazdag habzású arctisztító ideális, pH 5-ös értékével hatékonyan távolítja el a sminket és a mindennapi szennyeződéseket anélkül, hogy kiszárítaná a bőrt. Fejlett tisztítóhatásának köszönhetően a finom por akár 92,69%-át is eltávolítja a bőrfelszínről.

A rendkívül finom szódabikarbóna-részecskék a faggyúhoz és a szennyeződésekhez tapadva segítenek alaposan megtisztítani a pórusokat, míg a kókuszból származó tisztító összetevők kíméletesen tisztítanak és megőrzik a bőr hidratáltságát. A formulában található Centella ampulla nyugtatja a bőrt és támogatja annak természetes egyensúlyát, így tisztítás után is komfortos érzetet hagy maga után.

Használat: Nyomj egy kis mennyiséget a nedves kezedre, képezz dús habot, masszírozd az arcbőrre, majd langyos vízzel alaposan öblítsd le.

Kiszerelés: 1 ml

Összetevők:

Centella Asiatica Extract, Sodium Cocoyl Isethionate, Glycerin, Water, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Coco-Betaine, Potassium Cocoyl Glycinate, 1.2-Hexanediol, Sodium Chloride, Potassium Cocoate, Potassium Benzoate, Polyquaternium-67, Citric Acid, Dextrin, Sodium Bicarbonate, Theobroma Cacao (Cocoa) Extract, Disodium EDTA, Sodium Acetate, Butylene Glycol, Coptis Chinensis Root Extract, Sodium Hyaluronate, Eclipta Prostrata Extract, Coccinia Indica Fruit Extract